离子注入法增强YIG单晶薄膜的磁光效应 |
| |
作者姓名: | 欧阳嘉 何华辉 |
| |
作者单位: | 华中理工大学固体电子学系 |
| |
摘 要: | 利用离子注入技术,将Ce ̄(+3)离子注入到YIG单晶薄膜中,剂量为10 ̄(14)~10 ̄(16)ions/cm ̄2,能量为500keV。对注入前后的样品进行光吸收谱测量,发现注入后的样品光吸收有明显的增加,且样品颜色变深,对样品进行高温退火,可有效地降低光损耗。离子注入样品磁光特性测量表明Ce ̄(+3)薄膜有很大的磁光增强作用,且法拉第旋转角随注入剂量增加而增大。
|
关 键 词: | 离子注入,YIG单晶薄膜,磁光增强 |
本文献已被 CNKI 等数据库收录! |
|