首页
|
本学科首页
官方微博
|
高级检索
全部学科
医药、卫生
生物科学
工业技术
交通运输
航空、航天
环境科学、安全科学
自然科学总论
数理科学和化学
天文学、地球科学
农业科学
哲学、宗教
社会科学总论
政治、法律
军事
经济
历史、地理
语言、文字
文学
艺术
文化、科学、教育、体育
马列毛邓
全部专业
中文标题
英文标题
中文关键词
英文关键词
中文摘要
英文摘要
作者中文名
作者英文名
单位中文名
单位英文名
基金中文名
基金英文名
杂志中文名
杂志英文名
栏目中文名
栏目英文名
DOI
责任编辑
分类号
杂志ISSN号
1:1投影曝光装置
引用本文:
小出正信 ,李世兴.1:1投影曝光装置[J].微电子学,1983(6).
作者姓名:
小出正信
李世兴
摘 要:
随着正规的超大规模集成电路时代的到来,硅片加工工艺的核心技术——光学光刻,从高分辨率和高套刻精度要求来看,分步重复光刻机逐渐成为主流。这一趋势从近十个公司的分步重复光刻机目前在日本国内销售情况也可明暸。其中,去年日本的“立石电机”与“美国通用信号”
本文献已被
CNKI
等数据库收录!
设为首页
|
免责声明
|
关于勤云
|
加入收藏
Copyright
©
北京勤云科技发展有限公司
京ICP备09084417号