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1:1投影曝光装置
引用本文:小出正信 ,李世兴.1:1投影曝光装置[J].微电子学,1983(6).
作者姓名:小出正信  李世兴
摘    要:随着正规的超大规模集成电路时代的到来,硅片加工工艺的核心技术——光学光刻,从高分辨率和高套刻精度要求来看,分步重复光刻机逐渐成为主流。这一趋势从近十个公司的分步重复光刻机目前在日本国内销售情况也可明暸。其中,去年日本的“立石电机”与“美国通用信号”

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