| 常压化学气相沉积法制备氮化钛薄膜结构和节能性能研究 |
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| 引用本文： | 段钢锋,赵高凌,林小璇,吴历清,杜丕一,翁文剑,汪建勋,韩高荣. 常压化学气相沉积法制备氮化钛薄膜结构和节能性能研究[J]. 功能材料, 2010, 41(5) |
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| 作者姓名： | 段钢锋 赵高凌 林小璇 吴历清 杜丕一 翁文剑 汪建勋 韩高荣 |
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| 作者单位： | 浙江大学,材料科学与工程系,硅材料国家重点实验室,浙江,杭州,310027;浙江大学,材料科学与工程系,硅材料国家重点实验室,浙江,杭州,310027;浙江大学,材料科学与工程系,硅材料国家重点实验室,浙江,杭州,310027;浙江大学,材料科学与工程系,硅材料国家重点实验室,浙江,杭州,310027;浙江大学,材料科学与工程系,硅材料国家重点实验室,浙江,杭州,310027;浙江大学,材料科学与工程系,硅材料国家重点实验室,浙江,杭州,310027;浙江大学,材料科学与工程系,硅材料国家重点实验室,浙江,杭州,310027;浙江大学,材料科学与工程系,硅材料国家重点实验室,浙江,杭州,310027 |
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| 摘 要： | 在普通玻璃基板上利用常压化学气相沉积法在580℃条件下制备得到了氮化钛薄膜。对薄膜的结晶性能、断面形貌、方块电阻以及光学透过率和反射率进行了研究。随着沉积时间的增长,薄膜由单层结构变为一种特殊的双层结构,这种双层结构的形成是沉积过程中气相成核机制引起的。光谱结果显示制备得到的薄膜具备一定的阳光控制性能。然而,双层薄膜的红外反射率随沉积时间的增长迅速降低,影响了其阳光控制性能。
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| 关 键 词： | 氮化钛 常压化学气相沉积法 沉积时间 结构 阳光控制性能 |
Structure and energy saving performance of TiN films prepared by atomspheric pressure chemical vapor deposition |
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| DUAN Gang-feng,ZHAO Gao-ling,LIN Xiao-xuan,WU Li-qing,DU Pi-yi,WENG Wen-jian,WANG Jian-xun,HAN Gao-rong. Structure and energy saving performance of TiN films prepared by atomspheric pressure chemical vapor deposition[J]. Journal of Functional Materials, 2010, 41(5) |
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| Authors: | DUAN Gang-feng ZHAO Gao-ling LIN Xiao-xuan WU Li-qing DU Pi-yi WENG Wen-jian WANG Jian-xun HAN Gao-rong |
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