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| 第五届光学和电子光学技术会议在华盛顿召开 | |
| 作者姓名： | 建忠 |
| 摘 要： | 由美照相及光学仪表工程师学会(SPIE)组织的第五届光学和电子光学技术年会于1981年4月20日至4月24日在美国首都华盛顿召开。这届年会分十一个专题会议进行,其中涉及红外技术的有下列四个专题:焦平面发展技术(会议主席是美国通用动力公司波英纳分公司的E. Krikorian和美国宇航公司的陈维灼)会议讨论从目前水平发展到大量生产高性能、耐用的军民用的焦平面所需解决的问题。会上专题介绍①系统性能和生存能力的要求和系统;②有关的规格;③焦平面发展现状;④材料制备和质量问题;⑤噪声、不均匀性和其它性能的限制;⑥生产性和成品率;⑦价格间题;⑧性能鉴定,工艺过程中的测试 |
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