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| UV/H2O2高级氧化工艺反应机理与影响因素最新研究进展 | |
| 引用本文： | 刘杨先,张军.UV/H2O2高级氧化工艺反应机理与影响因素最新研究进展[J].能源化工,2011(3):18-24. |
| 作者姓名： | 刘杨先 张军 |
| 摘 要： | UV/H2O2高级氧化工艺具有工艺流程简单、氧化能力强、H2O2利用率高以及无二次污染等优点,显示出良好的发展潜力和应用前景.介绍了UV/H2O2高级氧化工艺的反应机理,并在此基础上着重对影响UV/H2O2反应过程的主要工艺参数(紫外光强度、紫外光波长、H202浓度、溶液温度、污染物初始浓度、初始pH值以及溶液中无机阴... |
| 关 键 词： | 紫外光 高级氧化 紫外光/过氧化氢 反应机理 影响因素 |