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退火温度对LaNiO_3薄膜组织结构及电阻率的影响
引用本文:冯治棋,戴培华,席博. 退火温度对LaNiO_3薄膜组织结构及电阻率的影响[J]. 有色金属(冶炼部分), 2013, 0(11): 46-49
作者姓名:冯治棋  戴培华  席博
作者单位:兰州理工大学材料学院;兰州理工大学甘肃省有色金属新材料省部共建国家重点实验室,兰州理工大学甘肃省有色金属新材料省部共建国家重点实验室,兰州理工大学甘肃省有色金属新材料省部共建国家重点实验室
基金项目:国家自然科学基金资助项目(21063008)
摘    要:采用射频磁控溅射法在Si(111)上制备出LaNiO3薄膜,并通过XRD、SEM等进行表征。结果表眀,LaNiO3薄膜在未退火状态下出现一定的择优取向,在空气中随着退火温度的增加,结晶性更好,出现钙钛矿型结构;900℃退火时出现杂相,LaNiO3发生分解导致薄膜表面形貌发生巨大变化。电阻率与结构中的氧空位有密切联系,退火温度增加,氧空位减少,电阻率减小。在700℃退火时可以得到1.59Ω·cm的最小电阻率。

关 键 词:LaNiO3  薄膜  退火温度  显微组织  电阻率
收稿时间:2013-05-14
修稿时间:2013-05-16

Effect of Annealing Temperature on Structure and Resistivity of LaNiO3 Film
Feng Zhiqi,Dai Peihua and Xi Bo. Effect of Annealing Temperature on Structure and Resistivity of LaNiO3 Film[J]. Nonferrous Metals(Extractive Metallurgy), 2013, 0(11): 46-49
Authors:Feng Zhiqi  Dai Peihua  Xi Bo
Affiliation:Department of Materials Science and Engineer,Lanzhou University of Technology;China State Key Laboratory of Gansu Advanced Non-Ferrous Materials,Lanzhou University of Technology;China,,
Abstract:
Keywords:LaNiO3   film   annealing temperature   resistivity
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