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| 空心阴极放电离子镀技术及工艺参数的确定 | |
| 引用本文： | 毛德才.空心阴极放电离子镀技术及工艺参数的确定[J].新技术新工艺,1983(3). |
| 作者姓名： | 毛德才 |
| 摘 要： | 为了在较宽的真空条件下,以高的离化率实施离子镀膜,并将金属气化和金属电离二者结合起来,等离子体电子束提供了最为有利的条件。1972年,J.R.Morey和H.R.Smith等人最先把这种技术应用到离子镀膜中,取名空心阴极放电离子镀,又叫HCD法。还为离子 |
| 本文献已被 CNKI 等数据库收录！ | |
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