| 化学镀铜Si基底上碳纳米管薄膜强流脉冲发射稳定性研究 |
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| 引用本文： | 麻华丽,张新月,曾凡光,王淦平,向飞. 化学镀铜Si基底上碳纳米管薄膜强流脉冲发射稳定性研究[J]. 固体电子学研究与进展, 2013, 33(4): 351-354 |
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| 作者姓名： | 麻华丽 张新月 曾凡光 王淦平 向飞 |
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| 作者单位： | 1. 郑州航空工业管理学院数理系,郑州,450015
2. 中国工程物理研究院,应用电子学研究所,高功率微波技术重点实验室,四川,绵阳,621900 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金资助项目，航空科学基金资助项目，河南省基础与前沿技术研究计划资助项目 |
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| 摘 要： | 为了研究碳纳米管薄膜在强流连续多脉冲下的发射特性,采用酞菁铁高温热解方法在化学镀铜硅基底上生长了碳纳米管薄膜(Si/Cu-CNTs),作为强流脉冲发射阵列。在20GW脉冲功率源系统中采用二极结构对Si/Cu-CNTs薄膜进行连续多脉冲高电流发射测试,结果表明:连续多脉冲情况下,峰值电场达到29.1V/μm,发射电流密度为0.892kA/cm2时,Si/Cu-CNTs薄膜仍具有良好的发射可重复性,连续发射的每个电流波形基本一致,发射稳定性好。
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| 关 键 词： | 连续强流脉冲发射 碳纳米管 化学镀铜 稳定性 |
Research on Intense Pulsed Emission Stability of Carbon Nanotube Films Grown on Si with Electroless Plated Cu Layer |
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| MA Huali , ZHANG Xinyue , ZENG Fanguang , WANG Ganping , XIANG Fei. Research on Intense Pulsed Emission Stability of Carbon Nanotube Films Grown on Si with Electroless Plated Cu Layer[J]. Research & Progress of Solid State Electronics, 2013, 33(4): 351-354 |
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| Authors: | MA Huali ZHANG Xinyue ZENG Fanguang WANG Ganping XIANG Fei |
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| Affiliation: | 1 Department of Mathematics and Physics,Zhengzhou Institute of Aeronautical Industry Management,Zhengzhou,450015,CHN)(2 Science and Technology on High Power Microwave Laboratory,Institute of Applied Electronics,CAEP,Mianyang,Sichuan,621900,CHN) |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | continuous intense pulsed emission carbon nanotubes electroless plated Cu stability |
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