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硅基平面波导材料的制作
引用本文:吴远大,张乐天,邢华,韦占雄,郑伟,刘国范,张玉书. 硅基平面波导材料的制作[J]. 功能材料与器件学报, 2000, 6(4): 432-435
作者姓名:吴远大  张乐天  邢华  韦占雄  郑伟  刘国范  张玉书
作者单位:吉林大学电子工程系光电子国家重点实验室,长春,130023
摘    要:采用火争水解法(FHD)在Si基上淀SiO2预制材料,然后在真空中/空气气氛中高温处理(1380℃),制得玻璃化的SiO2膜材料;该材料膜厚适中(10-30μm)、平整度好、光滑透明,适合制作单模、多模列阵平面波导光栅。并利用XRD、SEM、台阶仪等仪器对SiO2膜进行了测试分析。

关 键 词:火焰水解法 硅基平面波导材料 波分复用技术
修稿时间:2000-07-28

Fabrication of planar waveguide material on silicon
WU Yuan-da,ZHANG Le-tian,XIN Hua,WEI Zhan-xiong,ZHANG Wei,LIU Guo-fan,ZHANG Yu-shu. Fabrication of planar waveguide material on silicon[J]. Journal of Functional Materials and Devices, 2000, 6(4): 432-435
Authors:WU Yuan-da  ZHANG Le-tian  XIN Hua  WEI Zhan-xiong  ZHANG Wei  LIU Guo-fan  ZHANG Yu-shu
Abstract:
Keywords:Flame Hydrolysis Deposition (FHD)  Waveguide  Silica glass  
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