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| 芯片及微细加工超净环境技术的研究 | |
| 作者姓名： | 芮延年 张志伟 刘开强 任芸丹 |
| 作者单位： | 苏州大学,机电工程学院,苏州,215021 |
| 摘 要： | 芯片生产及微细加工过程中超净环境问题十分重要.本文通过对芯片及微细加工工艺对环境问题要求的研究,探讨获取超净环境的方法、构建了超净环境动力模型,并对超净环境设计中关键问题进行了较为深入的探讨,为芯片生产及微细加工超净环境设计提供了理论基础. |
| 关 键 词： | 芯片生产及微细加工 超净环境技术 |
| 本文献已被 万方数据 等数据库收录！ | |
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