48所以全新态势亮相SEMICON China 2006 |
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引用本文: | 陈阳.48所以全新态势亮相SEMICON China 2006[J].微细加工技术,2006(2). |
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作者姓名: | 陈阳 |
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作者单位: | <微细加工技术>编辑部 |
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摘 要: | 3月21日-23日,中国国际半导体设备与材料展暨研讨会(SEMICON China 2006)在上海新国际博览中心举行.此次展会的参展商主要是半导体及其他相关微电子制造企业,展会由SEMI协会和中国电子商会(CECC)共同主办,上海集成电路行业协会(SICA)与全球IC设计与委外代工协会(FSA)协办.
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