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48所以全新态势亮相SEMICON China 2006
引用本文:陈阳.48所以全新态势亮相SEMICON China 2006[J].微细加工技术,2006(2).
作者姓名:陈阳
作者单位:<微细加工技术>编辑部
摘    要:3月21日-23日,中国国际半导体设备与材料展暨研讨会(SEMICON China 2006)在上海新国际博览中心举行.此次展会的参展商主要是半导体及其他相关微电子制造企业,展会由SEMI协会和中国电子商会(CECC)共同主办,上海集成电路行业协会(SICA)与全球IC设计与委外代工协会(FSA)协办.

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