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| "大面积高光学质量金刚石膜制备、加工及应用"关键技术研究进展 | |
| 引用本文： | 吕反修,唐伟忠."大面积高光学质量金刚石膜制备、加工及应用"关键技术研究进展[J].材料导报,2001,15(2):24-25. |
| 作者姓名： | 吕反修 唐伟忠 |
| 作者单位： | 北京科技大学材料学院，北京科技大学材料学院 北京 100083，北京 100083 |
| 摘 要： | 采用具有我国独立知识产权的磁控/流体动力学控制大口径长通道等离子体炬技术(中国发明专利)建造的100kW级高功率DC Arc Plasma Jet CVD膜沉积系统(在气体循环条件下工作)和10kW级DC Arc Plasma Jet CVD装置成功地制备了高光学质量(光学级透明)大面积金刚石自支撑膜。在气体循环条件下制备的金刚石自支撑膜最大面积φ100mm,最大厚度～2mm。其中光学级透明金刚石膜最大直径φ60mm,厚度～0.6mm。在气体不循环状态(Blow down mode,10kW级JET)制备的光学级 |
| 关 键 词： | 金刚石薄膜 CVD 制备工艺 加工 应用 化学气相沉积 |
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