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InP材料Zn扩散的新方法
引用本文:谢生,陈朝,毛陆虹.InP材料Zn扩散的新方法[J].功能材料,2009,40(3).
作者姓名:谢生  陈朝  毛陆虹
作者单位:谢生,毛陆虹,XIE Sheng,MAO Lu-hong(天津大学电子信息工程学院,天津,300072);陈朝,CHEN Chao(厦门大学物理系,福建,厦门,361005)  
基金项目:国家自然科学基金,天津大学青年教师培养基金 
摘    要:为了在InP材料中获得精确的浅结扩散和低的接触电阻,同时防止InP表面层分解,提出了一种以Zn膜作扩散源、用快速热处理工艺进行Zn扩散的新方法.实验结果表明,该方法不仅可以获得约5×1018cm-3的空穴浓度,而且扩散界面平坦、无尖峰.用SiNx/SiO2和Al2O3图形掩膜制备的p-n结二板管的反向击穿电压分别为28和37V,进一步验证了扩散界面良好的电学特性.

关 键 词:锌扩散  磷化铟  电化学电容-电压  电流-电压特性

A novel method for zinc diffusion in n-type InP
XIE Sheng,CHEN Chao,MAO Lu-hong.A novel method for zinc diffusion in n-type InP[J].Journal of Functional Materials,2009,40(3).
Authors:XIE Sheng  CHEN Chao  MAO Lu-hong
Affiliation:1.School of Electronic Information Engineer;Tianjin Unversity;Tianjin 300072;China;2.Department of Physics;Xiamen University;Xiamen 361005;China
Abstract:
Keywords:
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