| 低能离子束轰击对非晶Ni-P薄膜组织与性能的影响 |
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| 引用本文： | 曾鹏,胡社军,谢光荣,黄拿灿,吴起白. 低能离子束轰击对非晶Ni-P薄膜组织与性能的影响[J]. 材料保护, 2001, 34(8): 12-13 |
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| 作者姓名： | 曾鹏 胡社军 谢光荣 黄拿灿 吴起白 |
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| 作者单位： | 广东工业大学材料与能源学院 |
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| 基金项目： | 广东省高教厅基金项目 (970 0 32 ) |
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| 摘 要： | 用X－射线衍射仪（XRD），俄歇电子能谱分析仪（AES），电子探针（EPMA），差示扫描量热仪（DSC）和超微显微硬度计研究了低能氮离子束对非晶Ni-P合金镀层进行轰击的晶化规律，分析了在低能氮离子束作用下的非晶薄膜的组织结构和显微硬度，结果表明，用能量为3．0－4．0keV，束流为80－200mA的低能氮离子束对非晶Ni-P镀层进行轰击，镀层中可以晶化析出Ni和Ni3P相，并在Ni(111）晶面上出现择优取向。随低能氮离子束的轰击能量和束流的增大，Ni-P非晶镀层中Ni和Ni3P的晶化温度下降，束流对晶化温度的影响比加速电压的影响大。载能粒子对非晶薄膜的作用，产生氮离子注入效应，使表层的含氮量增加。随束流的增加，显微硬度增加减缓，而随氮离子束加速电压增加，显微硬度增加明显，在4000V加速电压的氮离子束轰击下，显微硬度达到HV2131，比一般退火晶化方法所得到的显微硬度显著提高。
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| 关 键 词： | 低能离子束轰击 镍磷非晶镀层 晶化 组织结构 显微硬度 性能 化学镀 |
| 文章编号： | 1001-1560(2001)08-0012-02 |
Influence of Low-Energy Ion Beams Bombardment on Mi crostructure and Properties of Amorphous Ni-P Film |
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