| 硅基 MEMS 红外光源热稳定性测试研究 |
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| 引用本文： | 孔龄婕, 杨玉华, 张鹏, 贺婷, 丑修建. 硅基 MEMS 红外光源热稳定性测试研究[J]. 红外技术, 2015, (10): 873-876,882. |
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| 作者姓名： | 孔龄婕 杨玉华 张鹏 贺婷 丑修建 |
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| 作者单位： | 1.中北大学电子测试技术国防重点实验室仪器科学与动态测试教育部重点实验室 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金资助项目，编号51275492；中国博士后科学基金特别资助项目，编号2013T60557；中国博士后科学基金面上资助项目，编号2012T52118；江苏省博士后科研资助计划项目，编号1201038C。 |
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| 摘 要： | 光电标识是完成识别和搜救任务的“眼睛”。作为“眼睛”核心组成器件，MEMS 红外光源的工作稳定性对标识效果具有最直接的影响，而 MEMS 红外光源的工作稳定性取决于辐射薄膜的热稳定性，表现为辐射体薄膜结构工作电阻的动态变化趋势。为此通过开展 MEMS 红外光源电阻特性研究对于深入探索光电标识装置的标识特性意义重大。采用阻抗分析仪进行测试，结果表明 MEMS 红外光源长时间工作下其本征电阻值变化量仅为0.4%，热稳定性良好；在可承受驱动电压范围内，光源的动态电阻随电压的变化无明显偏移，薄膜表面形貌变化正常，MEMS 红外光源整体结构工作稳定。
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| 关 键 词： | MEMS 红外光源 热稳定性 动态电阻 薄膜形貌 |
The Testing Research of Thermal Stability of Silicon MEMS Infrared Source |
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| KONG Ling-jie, YANG Yu-hua, ZHANG Peng, HE Ting, CHOU Xiu-jian. The Testing Research of Thermal Stability of Silicon MEMS Infrared Source[J]. Infrared Technology , 2015, (10): 873-876,882. |
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| Authors: | KONG Ling-jie YANG Yu-hua ZHANG Peng HE Ting CHOU Xiu-jian |
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