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透明导电ZnO:Sn薄膜光学和电学性能的研究进展
引用本文:谌夏,方亮,吴芳,阮海波,魏文猴,黄秋柳.透明导电ZnO:Sn薄膜光学和电学性能的研究进展[J].半导体光电,2012,33(1):1-6.
作者姓名:谌夏  方亮  吴芳  阮海波  魏文猴  黄秋柳
作者单位:重庆理工大学材料科学与工程学院,重庆,400054;重庆大学应用物理系,重庆,401331
基金项目:国家自然科学基金项目,重庆大学研究生创新基金项目,重庆大学“211工程”三期创新人才培养计划建设项目,重庆大学大型仪器设备开放基金项目
摘    要:纯ZnO电阻率高,电学性能不稳定,通过掺杂其他元素提高其光电性能,制备出高质量的ZnO薄膜是实现其应用的关键。文章从制备方法、掺杂浓度和退火等方面综述了Sn掺杂ZnO(ZnO:Sn)薄膜光电性能的研究进展,提出了降低ZnO:Sn薄膜电阻率和提高透光率的有效途径。

关 键 词:宽禁带半导体材料  ZnO:Sn薄膜  光学性质  电学性质
本文献已被 CNKI 万方数据 等数据库收录!
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