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氮离子注入法合成CNx膜的化学键表征
引用本文:曹培江  朱德亮  马晓翠,潘跃武.氮离子注入法合成CNx膜的化学键表征[J].真空科学与技术学报,2005,25(5):328-330.
作者姓名:曹培江  朱德亮  马晓翠  潘跃武
作者单位:曹培江(深圳大学理学院,深圳市特种功能材料重点实验室,深圳,518060);朱德亮(深圳大学理学院,深圳市特种功能材料重点实验室,深圳,518060);马晓翠(深圳大学理学院,深圳市特种功能材料重点实验室,深圳,518060);潘跃武(哈尔滨工业大学深圳研究生院,材料科学与工程学科部,深圳,518055)
基金项目:广东省自然科学基金项目(No.04300875)
摘    要:采用N离子注入金刚石膜和热解石墨方法合成了CNx膜,用Raman光谱和XPS谱对合成薄膜中C、N的化学键合状态进行了研究.通过与Raman光谱的比较,我们对合成样品XPS谱中N1s的化学键合状态作出如下归属≈400.0 eV属于sp2 C-N键;≈398.5 eV则属于sp3 C-N键.结果显示碳原子、氮原子间的化学键合状态,明显地依赖于衬底材料及注入N离子的能量.

关 键 词:N离子注入  金刚石  化学键
文章编号:1672-7126(2005)05-0328-03
修稿时间:2005年3月31日

Chemical Bond Characterization of CNx Films Synthesized by Nitrogen Ion Implantation
Cao Peijiang.Chemical Bond Characterization of CNx Films Synthesized by Nitrogen Ion Implantation[J].JOurnal of Vacuum Science and Technology,2005,25(5):328-330.
Authors:Cao Peijiang
Abstract:
Keywords:
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