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| 磁控溅射氮分压对Nb-Si-N薄膜结构和性能的影响 | |
| 引用本文： | 王剑锋,宋忠孝,徐可为,范多旺.磁控溅射氮分压对Nb-Si-N薄膜结构和性能的影响[J].稀有金属材料与工程,2006,35(6):978-981. |
| 作者姓名： | 王剑锋 宋忠孝 徐可为 范多旺 |
| 作者单位： | 1. 西安交通大学,金属材料强度国家重点实验室,陕西,西安,710049 2. 西安交通大学,电子物理与器件教育部重点实验室,陕西,西安,710049 3. 兰州交通大学,光电技术与智能控制教育部重点实验室,兰州,甘肃,730070 |
| 基金项目： | 国家研究发展基金;中国科学院资助项目;教育部重点实验室基金 |
| 摘 要： | 用反应磁控溅射法在不同的氮分压下沉积了Nb-Si-N薄膜.结果表明：Nb-Si-N膜的成分、结构和性能随氮分压的改变而不同.随氮分压的增加,Nb-Si-N膜的Nb/Si比和表面粗糙度减小;薄膜的电阻值和微硬度增加.Nb-Si-N膜的结构为纳米晶NbN与类似Si3N4非晶相组成的纳米复合结构,且随着氮分压的增加,Nb-Si-N膜的非晶倾向增强,晶粒尺寸减小. |
| 关 键 词： | 磁控溅射 氮分压 结构 |
| 文章编号： | 1002-185X(2006)06-0978-04 |
| 收稿时间： | 2005-07-12 |
| 修稿时间： | 2005年7月12日 |
The Effect of N2 Partial Pressure on the Microstructure and Properties of Nb-Si-N Films |
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| Wang Jianfeng,Song Zhongxiao,Xu Kewei,Fan Duowang.The Effect of N2 Partial Pressure on the Microstructure and Properties of Nb-Si-N Films[J].Rare Metal Materials and Engineering,2006,35(6):978-981. | |
| Authors: | Wang Jianfeng Song Zhongxiao Xu Kewei Fan Duowang |
| Abstract: | The Nb-Si-N films were deposited by reactive magnetron sputtering with different N2 partial pressures. The result showed that the composition, microstructure and properties of the Nb-Si-N films depend strongly on the N2 partial pressure. As the N2 partial pressure increasing, the Nb/Si ratio and the surface roughness decease, but the bulk resistance and microhardness of the Nb-Si-N films increase. The microstructure of Nb-Si-N films is a nano-composite structure consisting of nano-sized NbN crystallites and amorphous Si3N4-like compound of Si-N. With the increase of N2 partial pressure, the amorphous tendency of Nb-Si-N films increases and the grain size decreases. |
| Keywords: | Nb-Si-N |
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