NO在Ru(100)和Cs/Ru(100)表面上吸附的ARUPS研究 |
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作者姓名: | 李海洋 鲍世宁 张训生 范朝阳 张建华 冯小松 魏赛珍 毛祖遂 徐亚伯 |
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作者单位: | 浙江大学物理系!杭州310027 |
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摘 要: | 150K的低温下,NO在清洁的Ru表面的吸附,HeⅡ-ARUPS显示在Ef以下9.3eV(5σ+1π)和14.6eV(4σ)处有两个峰,表明NO在Ru表面上是分子吸附。NO-4σ峰强度随HeⅡ光入射角的变化说明NO分子是倾斜地吸附在Ru表面上,其倾斜趋向于原于间距较大的〈0001〉力位。对于NO在Cs/Ru表面的吸附,ARUPS测得在Ef以下6.2,9.2,11.1,12.4和14.9eV处有五个峰,与N2O气侧的UPS谱比较,认定它们是N2O,NO共存的结果,表明NO在CS/Ru表面上分解后可形成N2O分子的吸附。
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关 键 词: | 氧化氮吸附 表面吸附 角分辨紫外光电子谱 倾斜吸附 |
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