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| CsI/Ni/LiF半透明真空紫外光阴极的分析研究 | |
| 作者姓名： | 徐登高 刘元震 杨伟毅 |
| 作者单位： | 华东工学院光电技术系(徐登高，刘元震)，华东工学院光电技术系(杨伟毅) |
| 摘 要： | 欲探测真空紫外区(λ<200nm)的二维空间的光信息,我们在LiF窗口材料上溅射一定厚度的Ni膜作导电衬底,再真空蒸镀一定厚度的CsI淀积层,制成CsI/Ni/LiF半透明真空紫外光阴极。用H_2水冷毛细管真空紫外辐射源作捡测光源,对CsI光阴极层厚度为70nm |
| 本文献已被 CNKI 等数据库收录！ | |
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