| 多弧离子镀TiN和(TiZrCr)N膜中宏观颗粒的SEM分析 |
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| 引用本文： | 李成明,张勇,曹尔妍. 多弧离子镀TiN和(TiZrCr)N膜中宏观颗粒的SEM分析[J]. 电子显微学报, 2000, 19(4): 565-566 |
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| 作者姓名： | 李成明 张勇 曹尔妍 |
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| 作者单位： | 中科院力学所材料工程中心,北京,100080 |
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| 摘 要： | 宏观颗粒是阻碍电弧离子镀广泛应用的障碍。它们镶嵌在膜层中,或散布在膜层表面。引起薄膜微区成分和结构的突变,对于工具镀来讲不一定有害,而对于高档模具和装饰来讲无疑是有害的。由于真空电弧阴极斑点局部温度高达8000～40000K,阴极表面的微小熔池产生喷射,最终形成这些宏观颗粒。许多方法用来减少和消除真空电弧离子镀中的大颗粒。本文比较了在直流偏压、直流迭加脉冲偏压和磁场过滤电弧作用下的宏观颗粒特点。实验方法用4弧源真空电弧离子镀设备进行TiN膜的沉积,用Zr、Cr、Ti靶进行(ZrCrTi)N复合膜的共沉积。工艺条件为:电弧电流80…
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| 关 键 词： | 多弧离子镀 氮化钛膜 宏观颗粒 SEM |
Investigated of macro-particles in TiN and (TiCrZr) N films by vacuum arc deposition |
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| LI Cheng-ming,ZHANG Yong,CAO Er-yan. Investigated of macro-particles in TiN and (TiCrZr) N films by vacuum arc deposition[J]. Journal of Chinese Electron Microscopy Society, 2000, 19(4): 565-566 |
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| Authors: | LI Cheng-ming ZHANG Yong CAO Er-yan |
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