|
|||||
|
|
| 溅射Ar流量对Mn膜光学常数的影响 | |
| 作者姓名： | 邵飞 张晋敏 唐华杰 胡维前 谢泉 卢顺顺 贺晓金 |
| 作者单位： | 贵州大学电子信息学院;贵州大学新型光电子材料与技术研究所; |
| 基金项目： | 国家自然科学基金(61264004);贵州省自然科学基金(黔科合J字[2013]2119);贵州省优秀教育科技人才省长基金(黔省专合字[2011]40);贵州省教育厅“125”重大科技专项项目(黔教育合重大专项字[2012]003);贵州省科技创新人才团队建设项目(黔科合人才团队(2011)4002);贵州省科技攻关项目(黔科合GY字(2011)3015) |
| 摘 要： | 采用可变入射角全自动椭圆偏振光谱仪,在能量2.0~4.0eV范围内测量了磁控溅射法制备的金属Mn膜的光学常数,分析了氩气流量对Mn膜光学性质的影响。结果表明,在低能区,随Ar流量的增加,薄膜的所有光学常数均有不同程度的降低;而在高能区,流量对光学常数的影响不明显。薄膜复介电常数、折射率n随流量增大不断减小,在流量为15mL/min后变化不明显;而消光系数k在流量为15~20mL/min没有明显变化,在流量达到25mL/min后消光系数显著减小。 |
| 关 键 词： | 磁控溅射 锰薄膜 Ar流量 光学常数 |
| 本文献已被 CNKI 等数据库收录！ | |