| 偏压对高功率脉冲磁控溅射DLC膜层结构及性能的影响 |
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| 引用本文： | 林松盛,高迪,苏一凡,许伟,郭朝乾,李洪,石倩,韦春贝,代明江,杨建成.偏压对高功率脉冲磁控溅射DLC膜层结构及性能的影响[J].材料研究与应用,2020,14(1):1-8. |
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| 作者姓名： | 林松盛 高迪 苏一凡 许伟 郭朝乾 李洪 石倩 韦春贝 代明江 杨建成 |
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| 作者单位： | 广东省新材料研究所,现代材料表面工程技术国家工程实验室,广东省现代表面工程技术重点实验室,广东 广州,510650;清远市富盈电子有限公司,广东 清远,511500 |
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| 摘 要： | 采用高功率脉冲磁控溅射技术制备DLC膜层,研究了偏压的变化对膜层结构及主要力学性能的影响.利用扫描电镜、原子力显微镜、拉曼光谱仪、X射线光电子能谱仪、纳米压入仪、划痕仪和磨擦磨损试验仪分析检测了DLC膜结构与性能.结果表明:偏压的提高,有利于改善DLC膜的表面光洁度及致密性,DLC膜表面均方根粗糙度R_q由不施加偏压时的5.39 nm降低至偏压为-350V的0.97 nm;致密性的提高使沉积速率略有下降,膜层厚度减小.偏压的增加,DLC膜内部sp~3含量先增加后减小趋势,在偏压为-250 V时,DLC膜中sp~3含量最高.偏压的增大,DLC膜的硬度、杨氏模量和摩擦磨损等主要力学性能均呈先增大后减小的趋势,并在偏压为-250 V时达到最高值,与微观结构变化趋势相吻合.
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| 关 键 词： | 类金刚石膜 高功率脉冲磁控溅射 偏压 微观结构 性能 |
Effect of biasvoltage on structure and properties of DLC films deposited by high power pulse magnetron sputtering |
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| LIN Songsheng,GAO Di,SU Yifan,XU Wei,GUO Chaoqian,LI Hong,SHI Qian,WEI Chunbei,DAI Mingjiang,YANG Jiancheng.Effect of biasvoltage on structure and properties of DLC films deposited by high power pulse magnetron sputtering[J].Journal of Guangdong Non-Ferrous Metals,2020,14(1):1-8. |
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| Authors: | LIN Songsheng GAO Di SU Yifan XU Wei GUO Chaoqian LI Hong SHI Qian WEI Chunbei DAI Mingjiang YANG Jiancheng |
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