| 新型水溶性咪唑啉缓蚀剂的制备及性能研究 |
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| 作者姓名： | 叶方伟 夏明桂 杨 霄 邓国伟 李 锐 |
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| 作者单位： | 武汉纺织大学 化学与化工学院，湖北 武汉 430200,武汉纺织大学 化学与化工学院，湖北 武汉 430200,武汉纺织大学 化学与化工学院，湖北 武汉 430200,武汉纺织大学 化学与化工学院，湖北 武汉 430200,武汉纺织大学 化学与化工学院，湖北 武汉 430200 |
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| 基金项目： | 武汉纺织大学绿色化工创新团队(201401022) |
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| 摘 要： | 以妥尔油酸分别与二乙烯三胺合成妥尔油咪唑啉缓蚀剂,再用氯化苄改性制得咪唑啉衍生物(TOID)。本文采用红外及紫外对测定咪唑啉中间体及TOID的结构;通过静态失重法、旋转挂片失重法及电化学方法考察TOID在1000 mg/L HCl+200 mg/L H2S介质中的缓蚀性能,并用扫描电镜观察试片的腐蚀形貌。实验结果表明:TODI浓度为50 mg/L,腐蚀温度为80℃,缓蚀时间为6 h,搅拌速度为45r/min时,TODI的缓蚀率达到95.96%。
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| 关 键 词： | 咪唑啉 缓蚀剂 失重法 极化曲线法 |
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