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超薄层超晶格GaAs/AlAs(001)的电子结构
作者姓名:周豪慎  薛舫时  刘良俊  黄永南
作者单位:南京电子器件研究所(周豪慎,薛舫时,刘良俊),南京电子器件研究所(黄永南)
摘    要:本文讨论了SU(N.M)的空间对称性和布里渊区经折叠后的特殊性质。使用分区变分法计算了超薄层超晶格(GaAs)_n/(AlAs)_n(n=1,2,3)的能带,运用四个势场调整参数所算出的能带和实验结果基本相符。结果表明,(GaAs)_1—(AlAs)_1为间接能隙半导体,禁带宽度为1.87eV,导带底位于Z_x点(1,0,0)(2π/a)。而(GaAs)_n—(AlAs)(n≥2)则为直接能隙半导体,且禁带宽度E_g随着n的增大而减小。并将计算结果和别的理论结果、实验数据作了比较和分析。

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