首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
     

AlN陶瓷与无氧铜的活性封接
引用本文:刘鑫,张小勇,陆艳杰,方针正,楚建新.AlN陶瓷与无氧铜的活性封接[J].真空电子技术,2007(4):56-58.
作者姓名:刘鑫  张小勇  陆艳杰  方针正  楚建新
作者单位:北京有色金属研究总院,北京,100088
摘    要:采用Ag-Cu-Ti活性钎料对AlN陶瓷与无氧铜进行了钎焊。通过对焊接件气密性的测试、陶瓷/金属结合界面的微观分析以及界面化学反应的热力学计算,得出以下结论:Ag-Cu-Ti2.0钎料可以实现AlN与无氧铜的气密封接,漏气速率Q<10×10-8Pa.L/s;钎料与陶瓷界面存在一定厚度的化学反应区,反应产物主要是TiN。

关 键 词:活性钎焊  微观分析
文章编号:1002-8935(2007)04-0056-03
修稿时间:2007年7月16日

Active Brazing of AlN and Oxygen-Free Copper
LIU Xin,ZHANG Xiao-yong,LU Yan-jie,FANG Zhen-zheng,CHU Jian-xin.Active Brazing of AlN and Oxygen-Free Copper[J].Vacuum Electronics,2007(4):56-58.
Authors:LIU Xin  ZHANG Xiao-yong  LU Yan-jie  FANG Zhen-zheng  CHU Jian-xin
Abstract:
Keywords:Ag-Cu-Ti
本文献已被 CNKI 万方数据 等数据库收录!
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号