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激光诱导制备纳米SiC粉体
引用本文:线全刚,梁勇,杨柯,王淑兰. 激光诱导制备纳米SiC粉体[J]. 沈阳工业大学学报, 2003, 25(2): 170-172
作者姓名:线全刚  梁勇  杨柯  王淑兰
作者单位:中国科学院,金属研究所,辽宁,沈阳,110016
摘    要:以硅烷Sih4和乙炔C2H2为反应原料,采用激光诱导化学气相沉积制备(LICVD)理想纳米SIC粉体.用化学分析、X射线衍射(XRD)、透射电子显微镜(TEM)及比表面积(BET)等分析测试手段对粉体进行了表征,结果表明粉体中SiC含量高于98%,平均粒径为20nm,晶体结构为β—SiC粉体产率大于200g/h,粉体中含氧量低于1%。

关 键 词:制备 纳米碳化硅粉体 纳米SiC粉体 激光诱导化学气相沉积
文章编号:1000-1646(2003)02-0170-03
修稿时间:2002-11-18

Synthesis of nano SiC powder by laser induced gas phase reaction
Abstract:
Keywords:laser  synthesis  nanometer  SiC
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