首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
     

锡须研究的历史与现状
引用本文:钟伟,管俊芳,邬博义,陈忍昌.锡须研究的历史与现状[J].电子质量,2005(8):59-63,58.
作者姓名:钟伟  管俊芳  邬博义  陈忍昌
作者单位:武汉理工大学;香港城市大学电子封装及组装暨失效分析及可靠性工程中心
摘    要:本文基于Galyon的系列综述文章,简要介绍了锡须研究的历史与现状,包括基本概念和理论,以及抑制方法.

关 键 词:锡须  历史  现状
文章编号:1003-0107(2005)08-0059-05

The History and Present Condition of Tin Resultant Research
Zhong Wei,Guan Jun-fang,Wu Bo-yi,CHEN Ren-Chang.The History and Present Condition of Tin Resultant Research[J].Electronics Quality,2005(8):59-63,58.
Authors:Zhong Wei  Guan Jun-fang  Wu Bo-yi  CHEN Ren-Chang
Affiliation:BianYi;BianYi;BianYi;BianYi
Abstract:
Keywords:Hair of Tin  History  Present
本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录!
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号