| 0.20 mm取向硅钢薄带的工艺及磁性研究 |
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| 引用本文： | 孙斌,蒋漫文,黄雄源.0.20 mm取向硅钢薄带的工艺及磁性研究[J].金属材料与冶金工程,2004,32(5):24-26,45. |
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| 作者姓名： | 孙斌 蒋漫文 黄雄源 |
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| 作者单位： | 湖南冶金职业技术学院,湖南,株洲,412000 |
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| 摘 要： | 研究了用2.20～2.30 mm厚热轧带钢经二次冷轧和中间退火代替通常的三次冷轧直接生产0.20 mm以下的取向硅钢片的新工艺,以及Mn/S、Mn%×S%、二次压下率和二次再结晶温度对薄带取向硅钢磁性的影响,确定了最佳工艺参数.
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| 关 键 词： | 取向硅钢薄带 二次再结晶 中间退火 |
| 文章编号： | 1005-6084(2004)05-24-03 |
INVESTIGATE 0.20 mm THICKNESS ORIENTED ELECTRICAL SILICON SHEET FOR PROCESS AND MAGNETISM |
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| SUN Bin,JIANG Manwen,HUANG Xiongyuan.INVESTIGATE 0.20 mm THICKNESS ORIENTED ELECTRICAL SILICON SHEET FOR PROCESS AND MAGNETISM[J].Metal Materials And Metallurgy Engineering,2004,32(5):24-26,45. |
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| Authors: | SUN Bin JIANG Manwen HUANG Xiongyuan |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | oriented silicon sheet second recrystallizing intermediate annealing |
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