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MoS2/Zr复合薄膜的制备工艺研究
引用本文:宋文龙,邓建新,张辉.MoS2/Zr复合薄膜的制备工艺研究[J].郑州大学学报(工学版),2009,30(1).
作者姓名:宋文龙  邓建新  张辉
作者单位:山东大学,机械工程学院,山东,济南,250061
基金项目:国家自然科学基金,教育部高等学校博士学科点专项科研基金
摘    要:采用中频磁控溅射及多弧离子镀相结合的复合镀膜工艺,在硬质合金YT14基体上制备了MoS2/Zr复合薄膜.采用扫描电子显微镜(SEM)考察了复合薄膜表面及截面的形貌,利用能谱分析(EDX)薄膜的成分组成.研究了沉积温度、基体负偏压及Zr电流等沉积工艺参数对复合薄膜的结合力、显微硬度、厚度等性能的影响.结果表明:沉积工艺参数对MoS2/Zr复合薄膜的性能影响很大,合理选择沉积工艺参数能够明显提高和改善复合薄膜的性能,并分析了沉积参数对性能的影响机理.在本实验条件下,最佳沉积工艺参数为:沉积温度200 ℃,基体偏压180 V,Zr电流30 A,制备的MoS2/Zr复合薄膜结构致密,其结合力约为60 N,厚度约为2.4 μm,显微硬度约为HV900.

关 键 词:MoS2软涂层  中频磁控溅射  多弧离子镀  MoS2/Zr复合薄膜  性能

Study on Preparation of MoS2/Zr Composite Coating
SONG Wen-long , DENG Jian-xin , ZHANG Hui.Study on Preparation of MoS2/Zr Composite Coating[J].Journal of Zhengzhou University: Eng Sci,2009,30(1).
Authors:SONG Wen-long  DENG Jian-xin  ZHANG Hui
Abstract:
Keywords:
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