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激光熔凝过程中金属薄膜瞬态电阻的测量
引用本文:童文辉,杨院生,朱仕学,惠希东,陈晓明,于力,胡壮麒.激光熔凝过程中金属薄膜瞬态电阻的测量[J].金属学报,2001,37(11):1213-1216.
作者姓名:童文辉  杨院生  朱仕学  惠希东  陈晓明  于力  胡壮麒
作者单位:1. 中国科学院金属研究所,
2. 北京科技大学
基金项目:中国科学院“九五”重大基础研究资助项目KJ951-B1-704
摘    要:采用瞬态电阻测量方法,对激光表面快速熔凝过程进行了实时跟踪,分析了激光器单脉冲能量、金属薄膜的预热温度等参数对测定结果的影响。结果表明;在快速熔凝过程中金属薄膜的电阻随过程时间呈凸峰状变化,在激光加热周期内,电阻随时间迅速增加,之后随时间的推移又逐渐减小,电阻的减小速度低于增加速度;随着激光功率密度增加,电阻曲线的峰值增大,升温及冷却速度相应增大;随着预热温度的提高,电阻峰值也相应增大,但是样品下表面的热导出率下降,冷却速度下降;当样品下表面的导热能力降低时,样品的电阻曲线峰值有所提高,而在冷却段电阻却明显变化缓慢。

关 键 词:金属薄膜  瞬态电阻测量  激光熔凝
文章编号:0412-1961(2001)011-1213-04
修稿时间:2001年7月27日

MEASUREMENT IN TRANSIENT RESISTANCE OF METAL FILMS DURING LASER PULSE HEATING
TONG Wenhu,YANG Yuansheng,ZHU Shixue,HUI Xidong,CHEN Xiaoming,YU Li,HU Zhuangqi Institute of Metal Research,The Chinese Academy of Sciences,Shenyang.MEASUREMENT IN TRANSIENT RESISTANCE OF METAL FILMS DURING LASER PULSE HEATING[J].Acta Metallurgica Sinica,2001,37(11):1213-1216.
Authors:TONG Wenhu  YANG Yuansheng  ZHU Shixue  HUI Xidong  CHEN Xiaoming  YU Li  HU Zhuangqi Institute of Metal Research  The Chinese Academy of Sciences  Shenyang
Affiliation:TONG Wenhu2,YANG Yuansheng,ZHU Shixue,HUI Xidong,CHEN Xiaoming,YU Li,HU Zhuangqi Institute of Metal Research,The Chinese Academy of Sciences,Shenyang 110016
Abstract:
Keywords:rapid melting and solidification process  pulse laser  metal film
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