首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
     

Li-N-H共掺法制备 p型 ZnO薄膜
引用本文:卢洋藩,叶志镇,曾昱嘉,陈兰兰,朱丽萍,赵炳辉. Li-N-H共掺法制备 p型 ZnO薄膜[J]. 无机材料学报, 2006, 21(6): 1511-1514. DOI: 10.3724/SP.J.1077.2006.01511
作者姓名:卢洋藩  叶志镇  曾昱嘉  陈兰兰  朱丽萍  赵炳辉
作者单位:浙江大学硅材料国家重点实验室,杭州,310027
基金项目:国家自然科学基金;国家自然科学基金;浙江省自然科学基金
摘    要:采用Li-N-H共掺技术在玻璃衬底上生长p型ZnO薄膜.XRD结果表明共掺ZnO薄膜具有高度c轴取向,Hall测试表明薄膜的电阻率为25.2Ω·cm,Hall迁移率为0.5cm~2/(V·s),空穴浓度为4.92×10~(17)/cm~3.此外,p-ZnO薄膜在可见光区域具有90%的高透射率.

关 键 词:磁控溅射  共掺
文章编号:1000-324X(2006)06-1511-04
收稿时间:2006-01-06
修稿时间:2006-01-062006-02-27

Preparation of Li-N-H Codoped p-type ZnO Films
LU Yang-Fan,YE Zhi-Zhen,ZENG Yu-Jia,CHEN Lan-Lan,ZHU Li-Ping,ZHAO Bing-Hui. Preparation of Li-N-H Codoped p-type ZnO Films[J]. Journal of Inorganic Materials, 2006, 21(6): 1511-1514. DOI: 10.3724/SP.J.1077.2006.01511
Authors:LU Yang-Fan  YE Zhi-Zhen  ZENG Yu-Jia  CHEN Lan-Lan  ZHU Li-Ping  ZHAO Bing-Hui
Affiliation:(StateKeyLabofSiliconMaterials,ZhejiangUniversity,Hangzhou310027,China)
Abstract:
Keywords:p-ZnO
本文献已被 CNKI 万方数据 等数据库收录!
点击此处可从《无机材料学报》浏览原始摘要信息
点击此处可从《无机材料学报》下载全文
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号