工艺极限将是半间距32nm吗?

许多有关人士在议论,基于现有技术,工艺的发展可能会在目前开发的45nm工艺的下下一代到达极限。即工艺节点为22nm,半间距(布线宽度和布线间距之和的1/2,大致为工艺节点的1/0.7)为32nm的工艺,预计它将在2015年左右投入实用。