首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
     

砷化镓微波单片集成电路(MMIC)技术进展
引用本文:陈效建,毛昆纯,林金庭,杨乃彬. 砷化镓微波单片集成电路(MMIC)技术进展[J]. 功能材料与器件学报, 2000, 6(3): 129-136
作者姓名:陈效建  毛昆纯  林金庭  杨乃彬
作者单位:南京电子器件研究所,南京210016
摘    要:着重讨论南京电子器件研究所(NEDI)在GaAs MMIC研制方面的近期进展。在详细介绍MMIC有源器件(MESFET,PHEMT及HBT)的CAD模型建立技术及MMIC CAD设计优化技术的基础上,以NEDI近年开发的各种MMIC为实例,包括发射,、接收与控制三类电路,给出有关的实验结果。此外,简要介绍了NEDI在移动通信手机用MMIC技术开发方面的前期结果。

关 键 词:砷化镓 微波单片集成电路 CAD模型 设计优化
修稿时间::

Development of GaAs MMIC technology
CHEN Xiao-jian,MAO Kun-chun,LIN Jin-ting,YANG Nai-bin. Development of GaAs MMIC technology[J]. Journal of Functional Materials and Devices, 2000, 6(3): 129-136
Authors:CHEN Xiao-jian  MAO Kun-chun  LIN Jin-ting  YANG Nai-bin
Abstract:
Keywords:GaAs  MMIC  CAD model  CAD Design and Optimization
本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录!
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号