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钝化处理对GaN基LED反向漏电流特性的改善
引用本文:薛松,韩彦军,罗毅.钝化处理对GaN基LED反向漏电流特性的改善[J].半导体光电,2006,27(2):164-166.
作者姓名:薛松  韩彦军  罗毅
作者单位:清华大学,电子工程系,集成光电子学国家重点实验室,北京,100084;清华大学,电子工程系,集成光电子学国家重点实验室,北京,100084;清华大学,电子工程系,集成光电子学国家重点实验室,北京,100084
基金项目:国家科技攻关项目 , 北京市科技计划
摘    要:通过采用硫代乙酰胺(CH3CSNH2)溶液浸泡和沉积SiNx薄膜对干法刻蚀后的GaN基LED进行了处理.处理后,LED器件在-5V直流电压偏置下的漏电流下降到约1/6.X射线光电子能谱(XPS)分析结果表明,CH3CSNH2溶液处理能阻止GaN表面吸附O杂质,起到钝化的作用.沉积SiNx介质薄膜能有效隔绝LED器件和周围的环境.因此,这种两步方法能钝化干法刻蚀后GaN的侧壁,有效地减小LED器件的漏电流.

关 键 词:氮化镓  LED  钝化  漏电流  XPS
文章编号:1001-5868(2006)02-0164-03
收稿时间:2005-08-30
修稿时间:2005年8月30日

Improvement on GaN-based LED Reversed Leakage Current Characteristic by Passivation Process
XUE Song,HAN Yan-jun,LUO Yi.Improvement on GaN-based LED Reversed Leakage Current Characteristic by Passivation Process[J].Semiconductor Optoelectronics,2006,27(2):164-166.
Authors:XUE Song  HAN Yan-jun  LUO Yi
Affiliation:State Key Lab. on Integrated Optoelectronics, Dept. of Electronic Engineering, Tsinghua University, Beijing 100084, CHN
Abstract:
Keywords:GaN  LED  passivation  leakage current  XPS
本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录!
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