微细掩膜电解加工的孤岛有限元仿真研究 |
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作者姓名: | 唐仪 黄志刚 郭钟宁 黄红光 何长运 |
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作者单位: | 广东工业大学机电工程学院; |
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基金项目: | 国家自然科学基金资助项目(11172072);国家自然科学基金重点资助项目(U1134003) |
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摘 要: | 在微细掩膜电解加工初期,被加工表面会形成孤岛结构,不利于加工出形状、精度良好的浅表面微结构,故减小电解加工过程中的孤岛结构很有必要。采用有限元方法建立了微细掩膜电解加工的数学模型,并利用该模型分析掩膜厚度和加工间隙对孤岛变化的影响,进而推论出电解加工开始时,被加工面上不均匀的电流密度分布是形成孤岛的原因。通过增加被加工表面的电流密度的均匀性,可提高浅表面微结构的加工质量。
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关 键 词: | 孤岛 电化学加工 电流密度 微结构 |
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