| 钽酸锂单晶片几何参数控制技术研究 |
| |
| 引用本文： | 杨洪星,王雄龙,杨静,范红娜,李明佳. 钽酸锂单晶片几何参数控制技术研究[J]. 压电与声光, 2018, 40(6): 847-850 |
| |
| 作者姓名： | 杨洪星 王雄龙 杨静 范红娜 李明佳 |
| |
| 作者单位： | (中国电子科技集团公司第四十六研究所，天津 300220) |
| |
| 摘 要： | 钽酸锂单晶材料具有良好的压电性能，是制作声表面波器件的理想衬底材料之一。该文从化学腐蚀、磨料粒径和粘蜡工艺3方面进行研究，钽酸锂单晶片的几何参数得到有效控制，最终得到了几何参数优越的钽酸锂单晶抛光片。其中总厚度变化（TTV）≤5 μm，局部平整度（LTV）≤1.5 μm，局部平整度合格比例（PLTV）≥95%，翘曲度（Warp）≥20 μm，弯曲度（Bow）≤10 μm，达到了商用钽酸锂单晶片的技术水平。
|
| 关 键 词： | 钽酸锂；几何参数；化学腐蚀；研磨；抛光 |
Investigation on Geometry Parameters of Lithium Tantalate Crystalline Wafer |
| |
| YANG Hongxing,WANG Xionglong,YANG Jing,FAN Hongn,LI Mingjia. Investigation on Geometry Parameters of Lithium Tantalate Crystalline Wafer[J]. Piezoelectrics & Acoustooptics, 2018, 40(6): 847-850 |
| |
| Authors: | YANG Hongxing WANG Xionglong YANG Jing FAN Hongn LI Mingjia |
| |
| Abstract: | |
| |
| Keywords: | lithium tantalite geometry parameter chemical etching lapping polishing |
|
| 点击此处可从《压电与声光》浏览原始摘要信息 |
|
点击此处可从《压电与声光》下载免费的PDF全文 |
|
