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退火温度对电子束沉积Ag/TiO2薄膜光学性质和光催化性能的影响
引用本文:郝殿中,张霞,韩培高,牛明生. 退火温度对电子束沉积Ag/TiO2薄膜光学性质和光催化性能的影响[J]. 光电子.激光, 2018, 29(9): 969-974
作者姓名:郝殿中  张霞  韩培高  牛明生
作者单位:曲阜师范大学 激光研究所,山东省激光偏光与信息技术重点实验室,山东 曲阜 273165,曲阜师范大学 激光研究所,山东省激光偏光与信息技术重点实验室,山东 曲阜 273165,曲阜师范大学 激光研究所,山东省激光偏光与信息技术重点实验室,山东 曲阜 273165,曲阜师范大学 激光研究所,山东省激光偏光与信息技术重点实验室,山东 曲阜 273165
基金项目:山东省自然科学基金(ZR2015AM024)资助项目 (曲阜师范大学 激光研究所,山东省激光偏光与信息技术重点实验室,山东 曲阜 273165)
摘    要:研究了退火温度对电子束制备Ag/TiO2薄膜光学 性质和光催化性能的影响。在石英玻璃、硅片 上沉积了Ag/TiO2复合薄膜,在空气氛围下,进行了400℃, 500℃的退火一小时.用紫外-可见分光光度 计、X射线衍射仪(XRD) 、原子力显微镜(AFM)对沉积和退火后的薄膜分别进行光学、结构、 形貌分析。结 果表明:300℃下制备的Ag/TiO2复合薄膜为无定形结构,400℃以上薄呈多晶态。吸光度和表面粗糙度 随退火温度的增加而增大,薄膜的光学带隙随退火温度的增加而减小。锐钛矿相表现出了更 好的光催化性能。

关 键 词:银掺杂二氧化钛   退火温度  光催化  薄膜  电子束沉积技术  微结构   带隙  光学性能
收稿时间:2017-11-20

Effects of air annealing temperature on optical and photocatalytic performance i n electron beam evaporated Ag/TiO2thin films
HAO Dian-zhong,ZHANG Xi,HAN Pei-gao and NIU Ming-sheng. Effects of air annealing temperature on optical and photocatalytic performance i n electron beam evaporated Ag/TiO2thin films[J]. Journal of Optoelectronics·laser, 2018, 29(9): 969-974
Authors:HAO Dian-zhong  ZHANG Xi  HAN Pei-gao  NIU Ming-sheng
Affiliation:Shandong Provincial Key Laboratory of Laser Polariz ation and Information Technology,Institute of Laser Research,Qufu Normal Univers ity,Qufu 273165China,Shandong Provincial Key Laboratory of Laser Polariz ation and Information Technology,Institute of Laser Research,Qufu Normal Univers ity,Qufu 273165China,Shandong Provincial Key Laboratory of Laser Polariz ation and Information Technology,Institute of Laser Research,Qufu Normal Univers ity,Qufu 273165China and Shandong Provincial Key Laboratory of Laser Polariz ation and Information Technology,Institute of Laser Research,Qufu Normal Univers ity,Qufu 273165China
Abstract:
Keywords:Ag-doped TiO2   annealing temperature   photocatalysis   thin films   elec tron beam evaporation technology   microstructure   band gap energy   optical prope rties
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