| 反应磁控溅射沉积TixAlyNz热控薄膜研究 |
| |
| 引用本文： | 李智,崔敬忠,李冠斌,梁耀廷. 反应磁控溅射沉积TixAlyNz热控薄膜研究[J]. 真空与低温, 2005, 11(1): 34-39 |
| |
| 作者姓名： | 李智 崔敬忠 李冠斌 梁耀廷 |
| |
| 作者单位： | 兰州物理研究所,甘肃,兰州,730000 |
| |
| 摘 要： | 采用反应磁控溅射技术,以Ti和Al为溅射靶材料,Ar和N2为溅射气体,在Al基底上沉积TixAlyNz热控薄膜.优化制备薄膜的最佳实验条件.对薄膜进行XRD、XPS分析及热光学测试,研究了TixAlyNz薄膜的结构特点及热光学特性.结果表明,采用独立Ti、Al靶的磁控反应溅射制备的TixAlyNz热控薄膜,通过控制薄膜厚度与组成,在忽略飞行器内部热作用的条件下其平衡温度为34℃.
|
| 关 键 词： | TixAlyNx薄膜 磁控溅射 热控 |
| 文章编号： | 1006-7086(2005)01-0034-06 |
| 修稿时间： | 2004-11-29 |
DEPOSITION OF TixAlyNz THERMAL CONTROL THIN FILMS BY MAGNETRON REACTIVE SPUTTERING |
| |
| LI Zhi,CUI Jing-zhong,LI Guan-bin,LIANG Yao-ting. DEPOSITION OF TixAlyNz THERMAL CONTROL THIN FILMS BY MAGNETRON REACTIVE SPUTTERING[J]. Vacuum and Cryogenics, 2005, 11(1): 34-39 |
| |
| Authors: | LI Zhi CUI Jing-zhong LI Guan-bin LIANG Yao-ting |
| |
| Abstract: | |
| |
| Keywords: | Ti_x Al_yN_z thin films magnetron sputtering thermal control |
| 本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录！ |
|
