| 工作气氛对氮化硅薄膜结构的影响 |
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| 引用本文： | 徐征,贾晓昀,赵谡玲,张福俊,唐煜,周春兰,王文静. 工作气氛对氮化硅薄膜结构的影响[J]. 太阳能学报, 2008, 29(11) |
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| 作者姓名： | 徐征 贾晓昀 赵谡玲 张福俊 唐煜 周春兰 王文静 |
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| 作者单位： | 1. 北京交通大学光电子技术研究所,北京交通大学发光与光信息技术教育部重点实验室,北京,100044
2. 中国科学院电工研究所,北京,100083 |
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| 基金项目： | 国家高新技术研究发展(863)计划，国家自然科学基金，北京市自然科学基金，博士点新教师基金，北京市科技新星计划，教育部留学回国科研启动基金、校基金项目 |
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| 摘 要： | 以石英玻璃和抛光硅片做为衬底材料,采用射频磁控反应溅射法,通过改变Ar/N2流量比得到了一系列氮化硅薄膜.用分光光度计对薄膜的光学特性进行了表征;X射线光电子能谱(XPS)表明薄膜中出现了Si-N的键合结构;原子力显微镜(AFM)图显示了在抛光硅片上制备出的薄膜比较平整、致密.实验结果表明:纯N2条件下制备的薄膜比使用Ar和N2混合气体条件下制备的薄膜中的SiNx含量要低;在混合气体参与的条件下,随着氮气流量的增加,薄膜中出现了微孔,缺陷态增加,并对微孔的形成机制进行了解释.
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| 关 键 词： | 射频磁控反应溅射 氮化硅薄膜 光学特性 |
INFLUENCE OF WORKING GAS ON STRUCTURES OF SILICON NITRIDE THIN FILMS |
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| Xu Zheng,Jia Xiaoyun,Zhao Suling,Zhang Fujun,Tang Yu,Zhou Chunlan,Wang Wenjing. INFLUENCE OF WORKING GAS ON STRUCTURES OF SILICON NITRIDE THIN FILMS[J]. Acta Energiae Solaris Sinica, 2008, 29(11) |
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| Authors: | Xu Zheng Jia Xiaoyun Zhao Suling Zhang Fujun Tang Yu Zhou Chunlan Wang Wenjing |
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| Affiliation: | Xu Zheng~1 Jia Xiaoyun~1 Zhao Suling~1 Zhang Fujun~1 Tang Yu~2 Zhou Chunlan~2 Wang Wenjing~2.Key Laboratory of Luminescence , Optical Information(Beijing Jiaotong University),Ministry of Education,Institute of Optoelectronics Technology,Beijing Jiaotong University,Beijing 100044,China,.Institute of Electrical Engineering,Chinese Academy of Sciences,Beijing 100083 |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | magnetron reactive sputtering silicon nitride thin film optical properties |
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