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| 磁控溅射法制备碳化钨薄膜的研究及应用进展 | |
| 引用本文： | 郑华均,黄建国. 磁控溅射法制备碳化钨薄膜的研究及应用进展[J]. 浙江化工, 2005, 36(1): 33-36 |
| 作者姓名： | 郑华均 黄建国 |
| 作者单位： | 浙江工业大学化材学院,浙江,杭州,310014 |
| 摘 要： | 综述了国内外磁控溅射法制备碳化钨薄膜技术的研究动态.文章认为,磁控溅射碳化钨薄膜今后研究的方向将集中在低温、超硬膜、耐蚀膜、催化性膜等方面. |
| 关 键 词： | 碳化钨 磁控溅射法 催化剂 |
| 文章编号： | 1006-4184(2005)01-0033-04 |
| 修稿时间： | 2004-10-28 |
Development of Tungsten Carbide Film Preparation by Magnetron Sputtering and its Application |
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