| 微通道板双面抛光技术 |
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| 引用本文： | 严诚,金戈,王益军,张正君,孙建宁,苏德坦. 微通道板双面抛光技术[J]. 半导体技术, 2007, 32(8): 653-656,676 |
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| 作者姓名： | 严诚 金戈 王益军 张正君 孙建宁 苏德坦 |
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| 作者单位： | 北方夜视技术股份有限公司,北京,100089;咸阳师范学院,物理系,陕西,咸阳,712000 |
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| 摘 要： | 基于微通道板皮料、芯料、实体边玻璃材料的特点,分析了微通道板的双面抛光机理,研究了抛光工艺参数(抛光粉、抛光压力、抛光液pH值等)对MCP平面粗糙度、表面质量的影响,提出了微通道板的抛光工艺及参数:抛光粉应选择莫氏硬度为6、粒度为1.5μm的CeO2;抛光压力和时间按照特定的台阶式工艺进行.抛光液的pH值对MCP表面粗糙度有较明显的影响,pH值会随抛光时间延长而升高,宜控制在6～8.
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| 关 键 词： | 微通道板 双面抛光 表面粗糙度 pH值 |
| 文章编号： | 1003-353X（2007）08-0653-04 |
| 修稿时间： | 2007-03-29 |
Microchannel Plate Double-Sided Polishing Technology |
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| YAN Cheng,JIN Ge,WANG Yi-jun,ZHANG Zheng-jun,SUN Jian-ning,SU De-tan. Microchannel Plate Double-Sided Polishing Technology[J]. Semiconductor Technology, 2007, 32(8): 653-656,676 |
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| Authors: | YAN Cheng JIN Ge WANG Yi-jun ZHANG Zheng-jun SUN Jian-ning SU De-tan |
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| Affiliation: | 1, North Night Vision Technology Co. , Lid, Beijing 100089, China ; 2. Department of Physics, Xianyang Normal College, Xianyang 712000, China |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | microchannel plate double-sided polishing surface roughness pH value |
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