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| 吸附溶出伏安法研究Ⅱ——铜(Ⅱ)存在下痕量胱氨酸的测定 | |
| 引用本文： | 孙长林 ,王建燕 ,胡伟 ,李伟华 ,卢青青.吸附溶出伏安法研究Ⅱ——铜(Ⅱ)存在下痕量胱氨酸的测定[J].浙江工业大学学报,1986(2). |
| 作者姓名： | 孙长林 王建燕 胡伟 李伟华 卢青青 |
| 摘 要： | 本文以汞膜电极研究了铜(Ⅱ)存在下痕量胱氨酸的阴极溶出行为,并探讨了机理,认为其电积过程为吸附过程。在Britton—Robinson溶液(pH10.2)中,胱氨酸浓度在5.0×10~(-10)～4.5×10~(-7)M范围内与其溶出峰电流呈线性。检测限低至5.0×10~(-11)M。对发样中痕量胱氨酸的测定作了初步尝试。 |
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