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| 新型柱状靶的研制 | |
| 作者姓名： | 陈推 朱丹 |
| 作者单位： | 北京仪器厂，北京仪器厂 北京市 100022，北京市 100022 |
| 摘 要： | 本篇介绍一种新型柱状靶，此靶结构简单，安装方便，具有较高的靶材利 用率，良好的溅射均匀性及溅射方向的选择性，是一种很有发展前途的新型溅射源。 |
| 关 键 词： | 磁控溅射 柱状靶 薄膜 |
| 本文献已被 CNKI 维普 等数据库收录！ | |
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