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| Flemion865 MIRI与Nafion NX966膜使用情况 | |
| 引用本文： | 刘晓晖,姜革.Flemion865 MIRI与Nafion NX966膜使用情况[J].氯碱工业,1997(5). |
| 作者姓名： | 刘晓晖 姜革 |
| 作者单位： | 沈阳化工股份有限公司氯碱分厂 |
| 摘 要： | 我厂DENORA离子膜电解装置采用30DD350复极式电解槽，每台30个单元、单元槽活性面积3．5m2，自然循环，操作电流密度3．57kA／m2。10台精使用NafionNX966膜（简称N966），2台使用Flemion865MIRI膜（简称F865）。N966是以磺酸基为复合膜，水迁移数较高，强度好。F865膜是以羧酸为主的复合膜根据两种膜的储存、预溶胀、安装及使用的各自要求，上槽运行，一年后两种膜的使用结果如下。1膜损坏F865膜损坏67张，最严重的一张裂口长43cm，N966膜损坏7张，最严重的一张裂口长5cm。2招电压使用F865膜单元槽电压明显低于使用N966膜的单元槽… |
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