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p沟道锗/硅异质纳米结构MOSFET存储器及其逻辑阵列
引用本文:杨红官,施毅,闾锦,濮林,沈波,张荣,郑有炓.p沟道锗/硅异质纳米结构MOSFET存储器及其逻辑阵列[J].半导体学报,2004,25(2):179-184.
作者姓名:杨红官  施毅  闾锦  濮林  沈波  张荣  郑有炓
作者单位:南京大学物理系,固体微结构国家重点实验室,南京,210093;南京大学物理系,固体微结构国家重点实验室,南京,210093;南京大学物理系,固体微结构国家重点实验室,南京,210093;南京大学物理系,固体微结构国家重点实验室,南京,210093;南京大学物理系,固体微结构国家重点实验室,南京,210093;南京大学物理系,固体微结构国家重点实验室,南京,210093;南京大学物理系,固体微结构国家重点实验室,南京,210093
基金项目:国家重点基础研究发展计划(973计划) , 国家自然科学基金
摘    要:采用巴丁(Bardeen)传输哈密顿方法,数值计算了p沟道锗/硅异质纳米结构存储器的时间特性.由于台阶状隧穿势垒和较高价带带边的作用,这种新型的存储器单元可以同时实现器件的快速编程和长久存储,具有优异的存储特性.以2×2逻辑阵列为例说明了这类存储器单元组成逻辑电路的设计原理.研究结果表明:这种器件可以作为在室温下工作的性能优异的非易失性存储器单元,有望在将来的超大规模集成电路中获得应用.

关 键 词:锗/硅  异质纳米结构  存储器  空穴隧穿  数值模拟
文章编号:0253-4177(2004)02-0179-06
修稿时间:2003年3月18日

p-Channel Ge/Si Hetero-Nanocrystal Based MOSFET Memoryand Its Logic Array
Abstract:
Keywords:Ge/Si  hetero-nanocrystal  memory  hole tunneling  simulation
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