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| 光刻胶刻蚀过程模拟的元胞自动机算法研究 | |
| 引用本文： | 周再发,黄庆安,李伟华,卢伟.光刻胶刻蚀过程模拟的元胞自动机算法研究[J].中国集成电路,2005(7):68-73. |
| 作者姓名： | 周再发 黄庆安 李伟华 卢伟 |
| 作者单位： | 东南大学MEMS教育部重点实验室 |
| 摘 要： | 针对光刻胶刻蚀过程模拟,提出了一种新的2-D动态元胞自动机(CA)算法.算法既有稳定性好的优点,又有运算速度快的优点.采用一些公认的光刻速率分布测试函数非常有效地模拟了光刻过程,算法在腐蚀速率变化非常大的区域也非常稳定.用该动态CA算法模拟了负化学放大胶的光刻过程,模拟结果与已有的实验结果一致.表明建立的2-D动态CA算法可以有效地用于光刻胶刻蚀过程的模拟. |
| 关 键 词： | 光刻胶 刻蚀 元胞自动机 过程模拟 |
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