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Dopant diffusion and current-voltage studies on epitaxial InP codoped with Ru and Re
Authors:D Söderström  S Lourdudoss  A Dadgar  O Stenzel  D Bimberg  H Schumann
Affiliation:1. Laboratory of Semiconductor Materials, Department of Electronics, Electrum 229, royal Institute of Technology, S-164 40, Kista, Sweden
2. Technische Unviersit?t Berlin, Hardenbergstr. 36, 10623, Berlin, Germany
Abstract:
Keywords:
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