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金属硼化物上噻吩类型硫的原位还原深度脱硫研究
引用本文:郭秀燕,李术元,刘峰,岳长涛.金属硼化物上噻吩类型硫的原位还原深度脱硫研究[J].高校化学工程学报,2007,21(6):942-947.
作者姓名:郭秀燕  李术元  刘峰  岳长涛
作者单位:1. 中国石油大学,重质油国家重点实验室,北京,102249
2. 中国石油规划总院,北京,100083
基金项目:中国石油天然气集团公司资助项目 , 中国石油大学校科研和教改项目
摘    要:研究了噻吩类型硫在金属硼化物上的原位还原深度脱硫.实验对不同金属硼化物、镍源对硼化镍的活性影响以及还原剂用量进行了评价.结果表明,硼化镍原位脱硫活性高于其它金属硼化物;采用六水合氯化镍镍源,还原剂用量为0.64 g时,脱硫率可达99%以上.通过GC-MS、IR、XRD以及XPS分析,研究了可能的反应机理,噻吩类型硫主要通过硫原子"端链吸附"在催化剂表面,发生氢解脱硫反应;噻吩脱硫产物主要为C1、C3和C4烃类,以气体形式逸出;苯并噻吩氢解脱硫产物主要为乙基苯和C7烃类产物,二苯并噻吩脱硫产物为联苯.推测反应机理为,硫化物通过硫原子"端链吸附"在活性中心,富电子镍介入硫化物中C-S键形成加合物,高活性氢进攻α-C原子,C-S键断裂,脱除硫元素多以负二价形式保留在硼化镍中.

关 键 词:金属硼化物  硼化镍  噻吩类型硫  原位还原脱硫
文章编号:1003-9015(2007)06-0942-06
收稿时间:2006-11-22
修稿时间:2007-04-30

Study on in situ Reductive Desulfurization of Thiophene-Type Compounds over Metal Boride
GUO Xiu-yan,LI Shu-yuan,LIU Feng,YUE Chang-tao.Study on in situ Reductive Desulfurization of Thiophene-Type Compounds over Metal Boride[J].Journal of Chemical Engineering of Chinese Universities,2007,21(6):942-947.
Authors:GUO Xiu-yan  LI Shu-yuan  LIU Feng  YUE Chang-tao
Abstract:
Keywords:metal boride  nickel boride  thiophene-type compounds  in situ reductive desulfurization
本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录!
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