| 脉冲激光沉积制备外延Ni_(0.8)Zn_(0.2)Fe_2O_4薄膜的应变与磁性能研究 |
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| 引用本文： | 李扬权,朱俊,罗文博.脉冲激光沉积制备外延Ni_(0.8)Zn_(0.2)Fe_2O_4薄膜的应变与磁性能研究[J].真空科学与技术学报,2010,30(5). |
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| 作者姓名： | 李扬权 朱俊 罗文博 |
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| 作者单位： | 电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室,成都,610054 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金资助项目 |
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| 摘 要： | 用脉冲激光沉积设备,分别在SrTiO3(001)(STO)和MgO(001)基片上外延生长了单层Ni0.8Zn0.2Fe2O4(NZF)薄膜。经X射线衍射分析,在STO和MgO基片上制备的NZF薄膜均为单一c取向的外延薄膜,由PHI扫描可知薄膜均为四重对称结构。由NZF薄膜的倒易空间图可以计算得到在STO和MgO基片上应变分别为0.0704和-0.0124。分别对不同基片上的NZF薄膜进行磁强计测量可得,在STO基片上沉积的NZF薄膜的面内和面外饱和磁化强度分别为269.6和224.78 emu/cm3,面内和面外的矫顽场分别为2.68×104和4.78×104A/m,在MgO基片上沉积的NZF薄膜的面内和面外饱和磁化强度分别为219.11和180.75 emu/cm3,面内和面外的矫顽场分别为3.46×104和5.32×104A/m。
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| 关 键 词： | NZF薄膜 脉冲激光沉积 应变 饱和磁化强度 矫顽场 |
Strains and Magnetic Properties of Ni0.8Zn0.2Fe2O4 Films Grown by Pulsed Laser Deposition |
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| Li Yangquan,Zhu Jun,Luo Wenbo.Strains and Magnetic Properties of Ni0.8Zn0.2Fe2O4 Films Grown by Pulsed Laser Deposition[J].JOurnal of Vacuum Science and Technology,2010,30(5). |
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| Authors: | Li Yangquan Zhu Jun Luo Wenbo |
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